Потребности современных отраслей промышленности, таких как электроника (производство МЭМС, печатных плат и т.д.) и высокопрецизионное машиностроение обуславливают динамичное развитие современных методов микрообработки материалов. Одним из самых перспективных направлений микрообработки материалов является лазерная микрообработка.
В ЦФП ИОФ РАН разработан прототип лазерной установки для микрообработки и программа управления данной установкой. Отработаны технологии лазерной микрорезки и микросверления пластиков (таких как полиимиды и оргстекло толщиной до 1 мм) и металлов (титан фольга и пр.). Установка основана на KrF эксимерном лазере с длиной волны 248 нм.
Базовая версия установки включает:
Характеристики установки, такие как прецизионность, глубина и качество микро-обрабоки зависят от применяемого эксимерного лазера, характеристик и качества оптической системы доставки лазерного излучения и точности координатного стола. Точность и число координат координатного стола выбирается в зависимости от сложности решаемых задач.
Рис.1. Общий вид установки микро-обработки.
Рис.2. Полиимидные микро-шестеренки полученные на установке.